PI+PDMS 复合膜掩模版 激光微加工 阵列微孔定制

一、产品简介

PI+PDMS 复合掩模版，是微流控、生物芯片、光学标定领域常用柔性薄膜掩膜材料。我们采用激光微加工工艺，在 0.15mm 超薄 PI+PDMS 复合膜上制备精密阵列微孔，标准样件为外径 Φ150mm 圆形基材，微孔孔径 1mm，孔阵排布可根据客户图纸调整，支持科研打样、小批量定制生产。

PI 聚酰亚胺具备优异的耐高温、尺寸稳定特性，PDMS 拥有良好柔性与透光性，二者复合后的薄膜兼顾刚性支撑与柔韧特性，加工后不易开裂，适配光刻掩膜、流体通道掩蔽、光学靶标等实验场景。

二、激光加工工艺优势

传统机械冲孔加工超薄软膜，极易造成薄膜拉伸、翘曲变形、孔口毛刺大，阵列孔位置偏差大，难以满足微实验精度要求。我们采用激光冷加工工艺加工 PI+PDMS 掩模版：

1. 无接触加工，无应力不变形：非机械接触式切割，0.15mm 超薄薄膜不会受到挤压拉伸，成品平整度高，有效规避软膜翘曲问题；

2. 孔壁洁净，无毛刺无焦边：微孔边缘干净，减少碎屑残留，保障掩膜使用时图案复刻精度；

3. 阵列孔一致性高：整板 Φ150mm 大圆片上批量加工阵列微孔，孔位精度稳定，孔径均匀；

4. 定制灵活：孔径、孔间距、阵列图形、外形尺寸均可按需修改，支持异形轮廓、多规格微孔组合加工。

三、核心技术参数

• 基材：PI+PDMS 复合薄膜

• 薄膜厚度：0.15mm

• 外形：圆形，外径 Φ150mm

• 标准微孔孔径：1mm

• 加工工艺：激光冷微加工

• 适用场景：微流控芯片、生物实验、光学掩膜、薄膜标定靶标、光刻掩蔽

四、应用领域

1. 微流控芯片研发：作为光刻掩膜，用于微通道图形制备，流体实验掩蔽；

2. 生物实验室：生物样本筛选、阵列培养、荧光检测薄膜掩膜；

3. 光学标定靶标：光学设备校准、成像标定阵列靶板；

4. 精密薄膜掩蔽：镀膜、蚀刻工艺中的柔性掩膜。

五、定制服务

可接收图纸、样品需求评估，支持前期打样验证，小批量快速交付。除本款 Φ150mm、0.15mm 厚、1mm 孔径 PI+PDMS 掩模版外，我们还可加工不同厚度、孔径、外形的 PI 膜、PDMS 薄膜、复合膜精密微孔件。欢迎科研院所、实验室、精密制造企业咨询，提供加工方案与报价。